蘇大維格 2025 年營收穩(wěn)健增長 虧損大幅收窄 半導(dǎo)體業(yè)務(wù)布局打開成長新空間

    蘇州蘇大維格科技集團(tuán)股份有限公司（股票代碼：300331，以下簡稱 “蘇大維格”）近日發(fā)布 2025 年年度報告。報告期內(nèi)，公司聚焦微納光學(xué)主業(yè)，經(jīng)營質(zhì)量持續(xù)改善，實現(xiàn)營業(yè)收入20.40 億元，同比增長10.82%；歸屬于上市公司股東的凈利潤 **-1852.64 萬元 **，同比大幅減虧68.09%，經(jīng)營活動產(chǎn)生的現(xiàn)金流量凈額達(dá)2.14 億元，同比增長4.78%，整體呈現(xiàn) “營收增、虧損收、現(xiàn)金流穩(wěn)” 的良好態(tài)勢。

    營收穩(wěn)步增長 虧損幅度顯著收窄

    2025 年，蘇大維格堅持技術(shù)創(chuàng)新與市場拓展雙輪驅(qū)動，整體經(jīng)營穩(wěn)步向好。公司全年實現(xiàn)營業(yè)收入20.40 億元，較上年同期增長10.82%；營業(yè)利潤 -3566.54 萬元，利潤總額 -1289.72 萬元 ，歸屬于上市公司股東的凈利潤 -1852.64 萬元，較上年同期減虧幅度高達(dá)68.09%。

    現(xiàn)金流層面，公司通過優(yōu)化資金使用效率，經(jīng)營活動現(xiàn)金凈流入2.14 億元，同比增長4.78%，為業(yè)務(wù)發(fā)展提供了堅實的資金保障。利潤分配方面，鑒于公司 2025 年度未實現(xiàn)盈利，且母公司存在未彌補(bǔ)虧損，公司計劃 2025 年度不派發(fā)現(xiàn)金紅利、不送紅股、不以公積金轉(zhuǎn)增股本。

    四大業(yè)務(wù)板塊分化發(fā)展 微納光學(xué)主業(yè)強(qiáng)勢增長

    報告期內(nèi)，公司四大事業(yè)群經(jīng)營表現(xiàn)分化，微納光學(xué)核心業(yè)務(wù)保持增長，反光材料業(yè)務(wù)減虧成效顯著。

    公共安全和新型 3D 印材事業(yè)群：作為公司穩(wěn)定現(xiàn)金流業(yè)務(wù)，公共安全防偽材料供需平穩(wěn)；新型 3D 印材積極拓展卡游、體育鞋服等領(lǐng)域，在下游消費(fèi)品需求承壓背景下實現(xiàn)收入穩(wěn)定。

    消費(fèi)電子新材料事業(yè)群：多點開花、亮點突出。導(dǎo)光材料業(yè)務(wù)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)持續(xù)優(yōu)化，高光效超薄導(dǎo)光板等高附加值產(chǎn)品占比提升，子公司維旺科技成功扭虧，實現(xiàn)凈利潤847.05 萬元；透明導(dǎo)電膜業(yè)務(wù)受益于 “閨蜜機(jī)” 等新品應(yīng)用，收入同比增長52.11%；納米紋理材料成功打入歐洲頭部車企供應(yīng)鏈，收入與利潤快速提升，子公司邁塔光電實現(xiàn)凈利潤778.49 萬元。

    高端智能裝備事業(yè)群：自主研發(fā)的激光直寫光刻設(shè)備穩(wěn)步推進(jìn)市場拓展，應(yīng)用領(lǐng)域持續(xù)延伸。公司于 2025 年 11 月以5.10 億元收購常州維普半導(dǎo)體51%股權(quán)，正式切入半導(dǎo)體量檢測設(shè)備賽道，維普半導(dǎo)體 2025 年實現(xiàn)營業(yè)收入1.69 億元，同比增長163.47%，凈利潤8413.62 萬元，同比增長370.96%，該業(yè)務(wù)已于 2026 年 1 月納入合并報表，成為公司新的業(yè)績增長極。

    反光材料事業(yè)群：受行業(yè)競爭加劇影響仍處虧損狀態(tài)，但減虧效果明顯，子公司華日升凈利潤 **-2340.36 萬元 **，同比減虧69.40%。公司已采取降本增效措施優(yōu)化業(yè)務(wù)，并計劃處置低效資產(chǎn)，集中資源發(fā)展微納光學(xué)主業(yè)。

    研發(fā)投入持續(xù)加碼 核心技術(shù)筑牢競爭壁壘

    2025 年，公司持續(xù)加大研發(fā)投入，全年研發(fā)費(fèi)用達(dá)1.87 億元，同比增長28.97%，研發(fā)投入占營業(yè)收入比例9.17%。截至報告期末，公司擁有研發(fā)人員401人，其中博士19名、碩士68名，累計獲得專利授權(quán)755項，其中發(fā)明專利265項。

    依托強(qiáng)大的研發(fā)實力，公司在微納光學(xué)制造、光刻設(shè)備、半導(dǎo)體量檢測、新型顯示材料等領(lǐng)域形成完整技術(shù)鏈條，在公共安全防偽、定制化光學(xué)印材、半導(dǎo)體光刻設(shè)備等細(xì)分領(lǐng)域建立領(lǐng)先的市場地位。

    戰(zhàn)略聚焦高端制造 2026 年錨定高質(zhì)量發(fā)展

    展望 2026 年，蘇大維格將持續(xù)聚焦微納光學(xué)與高端半導(dǎo)體設(shè)備主業(yè)，深化與維普半導(dǎo)體的協(xié)同發(fā)展，重點推進(jìn)直寫光刻設(shè)備在半導(dǎo)體掩模制造、先進(jìn)封裝領(lǐng)域的應(yīng)用，拓展納米紋理材料在車企的量產(chǎn)覆蓋，提升導(dǎo)光、觸控產(chǎn)品在消費(fèi)電子領(lǐng)域的滲透率。

    同時，公司將繼續(xù)推進(jìn) AR、虛實融合透明顯示、光伏銅電鍍圖形化設(shè)備等前沿技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化，優(yōu)化資產(chǎn)結(jié)構(gòu)，出清低效資產(chǎn)，全力提升盈利水平，致力于打造國內(nèi)領(lǐng)先、國際一流的微納研發(fā)制造企業(yè)，以技術(shù)創(chuàng)新驅(qū)動高質(zhì)量發(fā)展。