上海芯元基在其獨有的化學剝離Micro LED的技術(shù)基礎(chǔ)上，成功開發(fā)出了晶圓級印章巨量轉(zhuǎn)移工藝，達到了轉(zhuǎn)移芯片位置零偏差。
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Micro LED領(lǐng)域又一重大突破：芯元基成功開發(fā)出晶圓級印章巨量轉(zhuǎn)移工藝
來源：投影時代 更新日期：2023-12-11 作者：佚名
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