分析師：日本微影設(shè)備廠商面臨生存危機

    投資銀行野村證券(Nomura)的市場分析師指出，超紫外光微影(EUVL)儼然已成為下一代IC制程的主流接班技術(shù)，但日本微影設(shè)備業(yè)者在此方面的研發(fā)腳步，卻落后歐洲廠商ASML甚多；不過該銀行分析師認(rèn)為，面臨被市場淘汰危機的日本微影設(shè)備廠商，若可透過某種國家支持政策形式來凝聚產(chǎn)業(yè)力量，仍為時未晚──因為包括Nikon在內(nèi)的業(yè)者恐怕無法獨力負(fù)擔(dān)所需的技術(shù)研發(fā)支出。

    野村證券的分析師已經(jīng)針對各種微影接班技術(shù)進(jìn)行研究，所得出的結(jié)論是，盡管EUVL在2015~2016年全面量產(chǎn)之前，還得克服動力來源、光罩與檢查方面的挑戰(zhàn)，但仍是最具潛力的一種微影技術(shù)。而事實上，跟目前的氬氟浸潤式193奈米微影雙重圖形(double-patterning)相較，EUVL所面臨的問題還比較少。

    “根據(jù)那些最積極微縮制程的NAND閃存制造商說法，EUVL是下一代微影技術(shù)的最佳選項，他們并不想用雙重圖形技術(shù)(DPT)。”野村證券分析師表示，主要原因是DPT制程不但復(fù)雜度較高，也會導(dǎo)致低吞吐量、制程不可靠性以及帶來高成本的低良率。

    此外，利用了密集運算的像素化相位移光罩(xilatedphase-shiftmasks)之反轉(zhuǎn)式微影技術(shù)(Inverselithographytechnology，ILT)，據(jù)說與英特爾正運用該技術(shù)與氬氟浸潤式微影，微縮至11奈米制程；但野村證券分析師認(rèn)為，那只是當(dāng)前現(xiàn)有技術(shù)暫時性的擴充應(yīng)用。

    還有奈米壓印微影(Nanoimprintlithography，NIL)亦頗具潛力，甚至可微縮至10奈米制程，但主要適用微機電系統(tǒng)(MEMS)與光學(xué)組件。電子束微影(E-beamlithography)雖已經(jīng)用以生產(chǎn)原型組件，但要達(dá)到大量生產(chǎn)仍有難以突破的障礙。至于利用不同聚合物架構(gòu)的自動組裝(self-assembly)技術(shù)，應(yīng)用范圍則非常狹窄。

    野村證券預(yù)測，EUVL設(shè)備市場在2010年與2011年將分別達(dá)到50億日圓(約6,000萬美元)、250億日圓(約3億美元)的規(guī)模，到了2015與2016年，該市場可望進(jìn)一步擴充至1,600億日圓(約19億美元)與2,000億日圓(約24億美元)的規(guī)模，并在2018年達(dá)到3,000億日圓(35億美元)。

    日本廠商Canon是全球首家推出商業(yè)化EUVL設(shè)備的供貨商，但該公司已經(jīng)停止開發(fā)這類設(shè)備；另一家日本廠商Nikon的相關(guān)進(jìn)展則遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后歐洲業(yè)者ASML。目前ASML是唯一的EUVL設(shè)備供貨商，該公司一臺步進(jìn)機(stepper)的售價高達(dá)4,000萬~4,500萬歐元(約5,000萬~6,000萬美元)。

    野村分析師預(yù)言，在接下來的五年內(nèi)，ASML將獨霸EUVL步進(jìn)機市場；其他因EUVL技術(shù)而受惠的廠商包括相關(guān)零件供貨商Ushio、Lasertec與Hoya。而由于ASML在EUVL系統(tǒng)開發(fā)上的領(lǐng)導(dǎo)地位，日本廠商恐怕將失去在先進(jìn)半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)域的優(yōu)勢；對此野村分析師建議，日本需要推動一個全國性且聯(lián)合整個產(chǎn)業(yè)的研發(fā)計劃。(參考原文：Analyst:Japan’slithofirmsfaceextinction，byPeterClarke)